一种监控CMP研磨剂的腐蚀抑制剂的方法

摘要

本发明公开了一种监控CMP研磨剂的腐蚀抑制剂的方法，包括：一、在CMP设备的研磨垫(3)下方接入工作电极(1)，同时在研磨剂(4)中接入参考电极和微电极，参考电极和微电极分别与工作电极连接，CMP设备与一台处理器连接，以测量电流和电势；二、在研磨剂中加入腐蚀抑制剂，在硅片(2)上方施加压力并使硅片和研磨垫产生摩擦作用；三、跟踪处理器上实时的电流和电势的变化，来评价腐蚀抑制剂的性能；四、记录步骤三的结果，并选定合适的腐蚀抑制剂用于CMP工艺。本发明在CMP过程引入摩擦电化学技术来监控金属表面的特性变化，从而获得相应的腐蚀抑制剂的精确信息，并可据此选择合适的腐蚀抑制剂。