首页> 中国专利> 几何形状允许频繁体接触的MOSFET器件

几何形状允许频繁体接触的MOSFET器件

摘要

提供了一种MOSFET器件设计,其有效解决了由器件固有的寄生双极型晶体管所引起的问题。MOSFET器件包括:(a)体区;(b)多个体接触区;(c)多个源区;(d)多个漏区;及(d)栅区。在俯视图中,源区和漏区在正交行列内排列,且至少部分体接触区以四个源区和漏区为边界,优选为以两个源区和两个漏区为边界。

著录项

  • 公开/公告号CN100539185C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 通用半导体公司;

    申请/专利号CN03810606.X

  • 发明设计人 理查德·A·布朗夏尔;

    申请日2003-05-09

  • 分类号

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人钟强

  • 地址 美国纽约

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-07-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 29/76 授权公告日:20090909 终止日期:20110509 申请日:20030509

    专利权的终止

  • 2009-09-09

    授权

    授权

  • 2006-07-19

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-05-24

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号