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MOSFET device having geometry that permits frequent body contact

机译:具有允许频繁接触人体的几何形状的MOSFET器件

摘要

A MOSFET device design is provided that effectively addresses the problems arising from the parasitic bipolar transistor that is intrinsic to the device. The MOSFET device comprises: (a) a body region; (b) a plurality of body contact regions; (c) a plurality of source regions; (d) a plurality of drain regions; and (d) a gate region. In plan view, the source regions and the drain regions are arranged in orthogonal rows and columns, and at least a portion of the body contact regions are bordered by four of the source and drain regions, preferably two source regions and two drain regions.
机译:提供了一种MOSFET器件设计,可以有效解决器件固有的寄生双极晶体管引起的问题。该MOSFET器件包括:(a)体区; (b)多个身体接触区域; (c)多个源区域; (d)多个漏区; (d)栅极区域。在平面图中,源极区域和漏极区域布置成正交的行和列,并且身体接触区域的至少一部分由四个源极和漏极区域,优选两个源极区域和两个漏极区域作为边界。

著录项

  • 公开/公告号US6724044B2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GENERAL SEMICONDUCTOR INC.;

    申请/专利号US20020142674

  • 发明设计人 RICHARD A. BLANCHARD;

    申请日2002-05-10

  • 分类号H01L299/40;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:13:57

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