法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-04-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07H 17/04 授权公告日:20090909 终止日期:20100223 申请日:20060223
专利权的终止
2009-09-09
授权
授权
2006-09-20
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-07-26
公开
公开
机译: 一种生产高纯度氟钽酸钾或高纯度氟铌酸钾晶体的方法以及用于该方法并根据该方法制备的高结晶氟钽酸钾或高纯度的重结晶容器
机译: 用于生产高纯度二氧化硅的集成系统用于在基材上生产纯二氧化硅涂层的方法。用于制备高纯度二氧化硅的方法。用于将高纯度氧气分配到容器中的集成系统氧化硅氧化炉,用于使用高纯氧制备高纯氧化硅
机译: 一种通过淋洗法与金属及其他化合物的提纯方法生产高纯度金属硅的方法