法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-12-07
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25B 1/20 授权公告日:20090805 终止日期:20100929 申请日:20060929
专利权的终止
2009-08-05
授权
授权
2007-07-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-05-09
公开
公开
机译: 具有根据特定系统的全部或部分厚度的表面纳米图案和微观结构的高分子薄膜的制备方法
机译: 3-NiCo2O4 3-/-沉积在柔性三维花状NiCo2O4纳米结构上的三维镍/镍丝集电器的制备方法
机译: 具有微观和纳米表面结构的膜的制备方法,以及一种这样的膜