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1.02-1.08微米波段InGaAs/GaAs量子点外延结构及其制造方法

摘要

本发明涉及半导体激光器技术领域,提供了一种1.02-1.08微米波段InGaAs/GaAs量子点外延结构,以及实现这一外延结构的分子束大功率半导体量子点激光器材料的外延生长方法。通过精确控制分子束外延生长条件-用单原子层交替生长来控制量子点的组分、外延层厚度、形貌结构等,可以实现室温PL谱1.02-1.08微米波段发光,并且具有很高的发光效率。将其应用于光纤激光器的泵浦源,极大的缩小器件的体积和制作成本,并且保持了作为量子点激光器的优良性能指标,如:降低其激光器的阈值电流,减小功耗,增强温度稳定性等。

著录项

  • 公开/公告号CN100511734C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-07-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN200510086314.9

  • 申请日2005-08-31

  • 分类号H01L33/00(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人段成云

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01S 5/343 授权公告日:20090708 终止日期:20130831 申请日:20050831

    专利权的终止

  • 2009-07-08

    授权

    授权

  • 2007-05-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-03-07

    公开

    公开

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