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关键尺寸测量系统和使用其测量关键尺寸的方法

摘要

一种关键尺寸测量系统,包括电压测量单元、控制单元和关键尺寸测量单元。电压测量单元可以测量光掩模的掩模图案的电势。控制单元可以包括信息存储单元,该信息存储单元用于存储关于由电压测量单元测量的掩模图案的电势的分布信息,以及关于与光掩模的掩模图案相对应的布局图案的信息。关键尺寸测量单元可由控制单元以第一测量模式和比第一测量模式运行更短时间的第二测量模式操作,并测量掩模图案的关键尺寸。

著录项

  • 公开/公告号CN109540050B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN201811117478.7

  • 申请日2018-09-20

  • 分类号G01B15/00;H01L21/66;

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人邵亚丽

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 13:43:11

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