一种光掩模保护罩、具有保护结构的光掩模及其制备方法

摘要

本发明提供一种光掩模保护罩、具有保护结构的光掩模及其制备方法。该光掩模包括：第一透光基板；图形掩膜层，包括两个以上的凸起状图形，凸起状图形形成于第一透光基板的正面；第二透光基板；用于容置所述图形掩膜层的凹陷状图层，包括两个以上的可容置一个或多个凸起状图形的凹槽，凹陷状图层形成于第二透光基板的正面；当第一透光基板的正面与第二透光基板的正面对应叠合设置时，二者可形成密封腔，将图形掩膜层与凹陷状图层封闭于所述密封腔中。本发明可以有效控制光掩模雾化的问题，可以使得图形掩膜层始终保持洁净，并使图形掩膜层始终与外部环境隔离，从而可以控制雾化问题，且不需要定期清洁，大大节省了设备成本和工艺成本。