首页> 中国专利> 在多个主体上生产基本相同光学结构的方法

在多个主体上生产基本相同光学结构的方法

摘要

在所介绍的用于生产承载作为光学结构的相同印模印记的多个主体的方法中,首先通过在辅助主体(16)的表面(15)上附着颗粒(14)而生产出印模(13);然后,采用印模(13)在多个主体(10)上产生印记(11)。光学结构可接受照射,从而在屏幕上产生表示密钥的斑纹图样。利用现有技术手段复制给定的光学结构是基本不可能的。光学结构代表物理单向函数,其易于在正向方向上计算而不能反向计算。这样,这类光学结构可用于构建出为与主体(10)相关的信息载体中所含的用户信息进行访问/复制提供保护的系统。光学结构的可再现性使本方法适用于光盘。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-07-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B29C 59/02 授权公告日:20090805 终止日期:20100510 申请日:20040510

    专利权的终止

  • 2009-08-05

    授权

    授权

  • 2006-08-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-06-14

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号