法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-07-08
授权
授权
2006-12-20
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-09-14
公开
公开
机译: 化合物,其制造方法,组成,光学部件形成用组合物,光刻用膜形成用组合物,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,放射线敏感性组合物,非晶膜的制造方法,光刻用下层,成膜材料,形成用组合物用于光刻的底层膜,用于光刻的底层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和纯化方法
机译: 制造用于离子交换组合物和液体产品的含氟聚合物的液体组合物的过程,以及用于膜制造的过程,无需制造过程即可支持对所用聚合物进行修复以对聚合物溶液进行修复的过程补品交换
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法