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在半导体处理设备中使用径向基函数网络与超立方体进行偏离分类

摘要

一种数据分析方法与系统,包括产生第一节点,确定所述第一节点的第一超立方体,确定样本是否存在于所述第一超立方体内。若所述样本不存在于所述第一超立方体内,则所述方法包括确定所述样本是否存在于第一超球体内,其中所述第一超球体具有与所述第一超立方体的对角线相等的半径。

著录项

  • 公开/公告号CN108229689B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201810001281.0

  • 发明设计人 德莫特·坎特维尔;

    申请日2014-01-14

  • 分类号G06N20/00(20190101);G06N3/063(20060101);G06N3/08(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;赵静

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 13:24:36

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