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一种吡非尼酮光降解杂质及其制备方法

摘要

本发明公开了一种吡非尼酮光降解杂质6‑甲基‑2苯基‑2‑氮杂双环[2.2.0]己‑5‑烯‑3‑酮及其制备方法。步骤简单,反应条件温和,产物收率高且纯度较高。本发明为吡非尼酮原料药及相关制剂的降解杂质检测提供了新的对照品,更有利于工艺研究和质量控制,进而控制吡非尼酮的产品质量,具有重大的意义和实用价值。

著录项

  • 公开/公告号CN112645862B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京华威医药科技集团有限公司;

    申请/专利号CN202011448041.9

  • 发明设计人 施路;许加龙;胡丰锦;

    申请日2020-12-09

  • 分类号C07D205/12(20060101);G01N1/28(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 210046 江苏省南京市栖霞区纬地路9号C3栋

  • 入库时间 2022-08-23 13:22:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-01

    授权

    发明专利权授予

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