展青霉素磁性分子印迹聚合物及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种展青霉素磁性分子印迹聚合物的制备方法，首先通过水热法制备大粒径四氧化三铁纳米粒子，然后制备Fe3O4@SiO2微球，Fe3O4@SiO2微球乙烯基化后聚合制得展青霉素磁性分子印迹聚合物。本申请制备所得展青霉素磁性分子印迹聚合物吸附速率显著提升，60分钟便能达到吸附平衡，并且在多次再生后仍可保持稳定及重复使用的性能，特异性强，制备时间短。本申请制备所得展青霉素磁性分子印迹聚合物更加有利于用于展青霉素的快速检测样品前处理。