法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-08-26
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/095 授权公告日:20090624 终止日期:20140630 申请日:20050630
专利权的终止
2009-06-24
授权
授权
2006-03-01
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-01-04
公开
公开
机译: 图案膜形成方法,图案膜形成构件的制造方法,图案膜形成构件,光电装置和电子设备
机译: 形成厚膜图案的凸版印刷机,使用其的厚膜图案形成方法和形成厚膜图案的凸版印刷机的制造方法
机译: 用于形成膜的组合物,抗蚀剂组合物,辐射敏感组合物,无定形膜制造方法,抗蚀剂图案形成方法,用于光刻,电路图案形成方法和用于光刻薄膜的底层薄膜的制造方法,用于形成光学构件的组合物, 用于形成膜,抗蚀剂树脂,辐射敏感树脂的树脂和用于形成光刻底层薄膜的树脂