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一种以自对准方式制造薄膜熔丝相变化随机存取存储器的方法

摘要

一种根据掩模修剪在较宽结构上制造自对准的较窄结构的方法。制造存储器件的方法,包含在包含有使用前段工艺生成的电路的衬底上形成电极层。此电极层包括第一电极和第二电极,其间有着绝缘构件以作为每个相变化存储单元。存储材料补钉形成于横越绝缘构件的该电极层的上表面。此补钉、第一电极和第二电极利用根据掩模修剪使用自对准工艺所生成。

著录项

  • 公开/公告号CN100501920C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-06-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 旺宏电子股份有限公司;

    申请/专利号CN200710004421.1

  • 发明设计人 龙翔澜;

    申请日2007-01-22

  • 分类号H01L21/00(20060101);H01L21/027(20060101);H01L21/82(20060101);H01L45/00(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人韩宏

  • 地址 中国台湾新竹科学工业园区

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-06-17

    授权

    授权

  • 2007-09-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-01

    公开

    公开

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