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公开/公告号CN110402275B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-04
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社LG化学;
申请/专利号CN201880017353.9
发明设计人 朴圣恩;俞在贤;金雅琳;金俊衡;
申请日2018-12-26
分类号C09D11/101(20060101);C09D11/03(20060101);G03F9/00(20060101);C09D11/30(20060101);
代理机构11327 北京鸿元知识产权代理有限公司;
代理人陈英俊;张云志
地址 韩国首尔
入库时间 2022-08-23 13:12:33
机译: 紫外线固化油墨组合物,使用其制造显示基板中的边框图案的方法以及由此制成的边框图案
机译: 紫外线固化油墨组合物,使用其制造显示基板的边框图案的方法以及由此产生的边框图案
机译: 用于喷墨的可膜印刷的紫外线固化型油墨组合物,使用由此制备的边框图案制备边框图案的方法以及包括该边框图案的显示面板
机译:通过在聚合物基板上使用AgNO3 / 1-二甲基氨基-2-丙烷油墨进行低温固化银图案的喷墨印刷
机译:柔性基板上纳米图案化导电聚合物薄膜的图案可定义和低成本制造
机译:使用照片温度可固化介质油墨在照片和纳米锅上制造2.4GHz倒立-F天线的刚性基板的方法
机译:使用完整的自下而上方法在形状记忆聚合物基板上轻松制造单轴纳米图案
机译:二嵌段共聚物薄膜中定向自组装方法的数值模拟,用于高范围阶的纳米级图案的高效制造
机译:用于超窄边框显示器的高度粘合剂和可持续的UV /热量双固化粘合剂嵌入过反应芯 - 壳聚合物纳米颗粒
机译:通过紫外线印刷光刻制造的抗蚀剂图案的紫外线曝光图案尺寸修剪
机译:在包括非氮化镓柱的基板上制造氮化镓半导体层的方法,以及由此制造的氮化镓半导体结构。