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场效应晶体管、半导体器件、其制造方法和半导体晶体生长方法

摘要

一种场效应晶体管,其包含缓冲层和阻挡层,各缓冲层和阻挡层均由III族氮化物化合物半导体制成,并且所述场效应晶体管在所述缓冲层至所述阻挡层的界面内部具有通道,其中所述阻挡层具有多层结构,包含突变界面供应层,其构成所述阻挡层中最下方的半导体层,并且其组成在所述缓冲层的所述界面上突然变化,和电极连接面供应层,其构成所述阻挡层中最上方的半导体层,并且其上表面形成为平坦的。

著录项

  • 公开/公告号CN100501951C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-06-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 丰田合成株式会社;

    申请/专利号CN200580018798.1

  • 申请日2005-06-09

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人顾晋伟

  • 地址 日本爱知县

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-03

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/338 授权公告日:20090617 终止日期:20150609 申请日:20050609

    专利权的终止

  • 2009-06-17

    授权

    授权

  • 2007-07-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-05-16

    公开

    公开

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