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公开/公告号CN111121789B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-22
原文格式PDF
申请/专利权人 上海航天控制技术研究所;
申请/专利号CN201911277853.9
发明设计人 李木子;孙俊;谭龙玉;彭杨;王兆龙;
申请日2019-12-12
分类号G01C21/24(20060101);G01C11/00(20060101);G06K9/62(20060101);
代理机构31323 上海元好知识产权代理有限公司;
代理人张妍;刘琰
地址 201109 上海市闵行区中春路1555号
入库时间 2022-08-23 13:09:04
机译: 可以将两种模式的磁通量分布(平衡模式/不平衡模式)从一种切换到另一种的磁控溅射装置,以及一种使用该装置由无机成膜材料形成膜的成膜方法,以及一种双模式磁控溅射装置及成膜方法,使用该装置由无机成膜材料在低温下成膜
机译: 图像治疗模式的选择和排列,彩色绘画分析方法,基于图像治疗模式分析的心理症状诊断方法以及记录有用于执行此操作的程序的记录介质
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