墙面抹平装置及墙面抹平设备

摘要

本发明公开了一种墙面抹平装置及墙面抹平设备，墙面抹平装置包括：支架，支架具有沿抹平方向设置的上部和下部；滚筒，滚筒可枢转地设在支架的上部；抹板，抹板设置在支架的下部，抹板相对抹平方向倾斜设置，抹板的下端相对抹板的上端更靠近墙面；抹板相对支架可活动，与滚筒靠近墙面一侧相切的面为滚压面，在非工作状态时抹板的下端伸出滚压面，在工作状态时所述抹板的下端被所述墙面压至与滚压面平齐。本发明在抹平前进的过程中滚筒与墙面之间的摩擦力自转，既能初次抹平墙面同时也能依靠自转排出与墙面之间的积料，抹板配合滚筒可形成较大的覆盖率。