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半导体强电介质存储元件的制造方法和半导体强电介质存储晶体管

摘要

本发明提供FeFET及其制造方法,该FeFET在不损害以往开发的FeFET具有的105秒以上的数据保持特性和108次以上的耐数据改写性特性的情况下,将强电介质的膜厚(df)减小至59nm

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