法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-05-08
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01R 13/02 授权公告日:20090513 终止日期:20120316 申请日:20070316
专利权的终止
2009-05-13
授权
授权
2007-11-14
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-09-19
公开
公开
机译: 光照相图案的尺寸检测方法
机译: 绘图用图案的分割涂布方式和绘图方式,分割涂布装置和绘图用图案的绘图装置,是在分割涂布程序中应在记录介质空抗蚀剂上涂布的图案。
机译: 绘制图案的分割处理方法,绘制图案的分割处理单元,写入方法,掩模方法的创建,半导体器件的制造方法,绘制图案的分割处理程序以及存储该程序的计算机可读记录介质