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背照式图像传感器光电子隔离层网栅的辅助图形结构

摘要

本发明公开了一种背照式图像传感器光电子隔离层网栅的辅助图形结构,针对图像传感器的深槽隔离网栅结构的辅助图形,所述的辅助图形为包含两组相对平行的线段,两组相对平行的线段共形成四个交叉区域,以合围形成口字型,所述的每组对边均包含中间粗两端细的线段,其两端较细的部分相互交叉。或者是辅助图形包含口子型主体部分及四个顶角部分,且主体形成的四个顶角又由四个小口字型组成,分别与主体的相邻两边相接;所述的四个顶角向外延伸凸出;本发明在网栅结构图形中所能添加辅助图形较短的情况下,对辅助图形拐角处进行了交叉和外凸两种特殊优化处理,从而显著增加图形、特别是拐角处图形的工艺窗口。

著录项

  • 公开/公告号CN110634899B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN201910914910.3

  • 发明设计人 李葆轩;于世瑞;

    申请日2019-09-26

  • 分类号H01L27/146(20060101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人焦健

  • 地址 201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2022-08-23 13:04:02

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