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使用烷基-铟化合物的烃溶液进行金属有机气相沉积的方法

摘要

本发明涉及用于通过金属有机气相沉积制备含铟层的方法,其中所述含铟层在反应室中在基板上生成,其中所述铟以具有式InR3的含铟前体化合物的形式递送到工艺,其中基团R彼此独立地选自具有1至6个C原子的烷基基团,其特征在于含铟前体化合物的递送以溶液形式发生,所述溶液包含溶剂和溶于其中的含铟前体化合物,其中所述溶剂具有至少一种具有1至8个碳原子的烃。本发明还涉及一种溶液,该溶液由下列组成:式InR3的化合物,其中R彼此独立地选自具有1至6个C原子的烷基基团,和至少一种具有1至8个碳原子的烃,所述溶液用于通过金属有机气相沉积制备含铟层的用途,以及用于执行所述方法的装置。

著录项

  • 公开/公告号CN108291301B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 优美科股份公司及两合公司;

    申请/专利号CN201680068576.9

  • 发明设计人 J·考赫;O·布雷尔;

    申请日2016-11-24

  • 分类号C23C16/448(20060101);C23C16/30(20060101);C23C16/40(20060101);C30B25/02(20060101);C07F5/00(20060101);C30B23/06(20060101);

  • 代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;

  • 代理人刘学媛

  • 地址 德国哈瑙-沃尔夫冈

  • 入库时间 2022-08-23 12:53:04

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