公开/公告号CN100470783C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-03-18
原文格式PDF
申请/专利权人 力成科技股份有限公司;
申请/专利号CN200610111234.9
发明设计人 范文正;
申请日2006-08-15
分类号H01L23/488(20060101);H01L23/495(20060101);H01L23/12(20060101);
代理机构11019 北京中原华和知识产权代理有限责任公司;
代理人寿宁;张华辉
地址 中国台湾新竹县
入库时间 2022-08-23 09:02:11
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-03-18
授权
授权
2008-04-16
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-02-20
公开
公开
机译: 具有通过基底晶片的全金属通孔的封装界面基底晶片的制造技术
机译: 具有通过基底晶片的全金属通孔的封装界面基底晶片的制造技术
机译: 具有通过基底晶片的全金属通孔的封装界面基底晶片的制造技术