首页> 中国专利> 氮化镓二硫化钼混合尺度PN结的制备方法

氮化镓二硫化钼混合尺度PN结的制备方法

摘要

本发明公开了一种氮化镓二硫化钼混合尺度PN结的制备方法,其步骤包括:(1)在衬底上沉积p‑GaN层;(2)在干净、平整的玻片表面放置PDMS,在胶带的表面铺一层均匀的MoS2片状晶体,用胶带粘有MoS2片状晶体的一面接触PDMS并施压,使MoS2转移到PDMS上形成MoS2膜,揭下胶带,再将步骤(1)制得的器件的p‑GaN层表面反扣在PDMS上并施压,使MoS2膜转移到p‑GaN层表面,制成氮化镓二硫化钼混合尺度PN结。本发明中采用的是PDMS辅助干法转移,操作简单,制作成本低廉。利用该方法制备出来的MoS2薄膜尺寸较大,且与传统的机械剥离法相比,该方法制备的样品衬底较为干净,便于后续的器件测试。

著录项

  • 公开/公告号CN111430244B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京南大光电工程研究院有限公司;

    申请/专利号CN202010375617.7

  • 发明设计人 曹玉洁;陈敦军;谢自力;

    申请日2020-05-07

  • 分类号H01L21/34(20060101);

  • 代理机构32332 江苏斐多律师事务所;

  • 代理人张佳妮

  • 地址 210046 江苏省南京市经济技术开发区恒发路28号04幢

  • 入库时间 2022-08-23 12:50:44

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号