首页> 中国专利> 一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法

一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法

摘要

本发明公开了一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法,针对有偏转系统的存在时,此时沿着光轴附近将场函数做级数展开分析系统电子光学特性,能够分析因偏转带来的二阶像差。利用维恩分析器,通过给圆弧电极施加电压信号激励,让分析器产生所需的四极场,叠加在维恩分析器上。针对整个成像系统或检测系统,计算其光学特性,根据叠加四极场所计算的结果,控制调节加入四极场的方位角和激励强度,从而达到补偿系统因偏转带来的二阶像差。

著录项

  • 公开/公告号CN112071731B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN202010717980.2

  • 发明设计人 康永锋;常飞浩;胡航锋;赵静宜;

    申请日2020-07-23

  • 分类号H01J37/147(20060101);H01J37/153(20060101);H01J37/28(20060101);H01L21/66(20060101);

  • 代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人陈翠兰

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号

  • 入库时间 2022-08-23 12:49:17

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号