公开/公告号CN110619985B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-09
原文格式PDF
申请/专利权人 横店集团东磁股份有限公司;
申请/专利号CN201910881064.X
申请日2019-09-18
分类号H01F1/147(20060101);H01F1/24(20060101);H01F1/26(20060101);H01F41/00(20060101);B22F1/02(20060101);
代理机构44245 广州市华学知识产权代理有限公司;
代理人张金刚
地址 322118 浙江省金华市东阳市横店镇湖头陆工业区
入库时间 2022-08-23 12:46:39
机译: 聚合物有机铝硅铝氧化物/金属氧化物的制备方法。聚合物有机铝硅铝氧化物/氧化铝和复合涂层;光学透明涂层的结构及其制备方法,复合溶胶的制备方法。以及制备聚合物polimerica杂化物;复合涂层的沉积Pirolitica膜及其沉积方法
机译: 结构类型为chabazita的硅铝磷灰石的制备方法,结构为chabazita的硅铝硅磷灰石,结构为chabazita的硅铝磷灰石为基的分子筛的制造方法以及基于发色的硅铝铝磷化石为基的分子筛的制造方法
机译: 结构类型为chabazita的硅铝磷灰石的制备方法,结构为chabazita的硅铝硅磷灰石,结构为chabazita的硅铝磷灰石为基的分子筛的制造方法以及基于发色的硅铝铝磷化石为基的分子筛的制造方法