用于产生在度量测量中使用的经编程缺陷的方法及系统

摘要

一种用于产生且实施经编程缺陷的系统包含光刻工具，所述光刻工具经配置以在样本上形成包含第一阵列图案及第二阵列图案的多图案结构。所述第一阵列图案或所述第二阵列图案含有经编程缺陷以将所述第一阵列图案与所述第二阵列图案区分开。所述系统包含度量工具，所述度量工具经配置以获取所述第一阵列图案及所述第二阵列图案的一或多个图像，所述一或多个图像具有含有所述经编程缺陷的视场。所述系统包含包括一或多个处理器的控制器。所述一或多个处理器经配置以从所述度量工具接收所述第一阵列图案及所述第二阵列图案的所述图像，且确定与所述第一阵列图案或所述第二阵列图案相关联的度量参数。