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Pt修饰ZnO微米线异质结发光二极管及其制备方法

摘要

本发明公开了Pt修饰ZnO微米线异质结发光二极管及其制备方法,该二极管包括包括p‑GaN衬底、PtNPs@ZnO:Ga复合微米线、垫片、石英玻璃,垫片与p‑GaN衬底并排摆放,PtNPs@ZnO:Ga复合微米线贴在p‑GaN衬底和垫片上,位于垫片上的一端贴有金属颗粒电极,p‑GaN衬底镀有合金电极,石英玻璃压在PtNPs@ZnO:Ga复合微米线上;该二极管的制备方法包括以下步骤:(S1)在制备Pt@ZnO:Ga金属修饰半导体的复合结构;(S2)制备PtNPs@ZnO:Ga复合微米线;(S3)制备PtNPs@n‑ZnO:Ga/p‑GaN异质结构;(S4)在p‑GaN衬底上制备合金电极,在PtNPs@ZnO:Ga复合微米线一端制备金属颗粒电极;(S5)最后在整个结构上按压一片石英玻璃,即得到Pt修饰ZnO微米线异质结发光二极管。该二极管紫外发光效率高,且为微米级光电器件,便于使用和制备,同时能够灵活调节发光波长。

著录项

  • 公开/公告号CN111525011B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京航空航天大学;

    申请/专利号CN202010059157.7

  • 申请日2020-01-19

  • 分类号H01L33/26(20100101);H01L33/40(20100101);H01L33/00(20100101);

  • 代理机构32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人柏尚春

  • 地址 210016 江苏省南京市秦淮区御道街29号

  • 入库时间 2022-08-23 12:40:00

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