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次溴酸稳定化组合物的制造方法、次溴酸稳定化组合物、以及分离膜的抑污方法

摘要

本发明涉及次溴酸稳定化组合物的制造方法、次溴酸稳定化组合物、以及分离膜的抑污方法。本发明提供实质上不含溴酸根离子且杀菌性能优异、对于金属而言基本无腐蚀性、保存稳定性优异的单液系的次溴酸稳定化组合物的制造方法,以及分离膜的抑污方法。次溴酸稳定化组合物的制造方法包括在非活性气体气氛下向含有水、碱金属氢氧化物和氨基磺酸的混合液中添加溴而使之反应的工序,溴的添加率相对于组合物的总量为25重量%以下。

著录项

  • 公开/公告号CN110078194B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 奥加诺株式会社;

    申请/专利号CN201910257571.6

  • 申请日2014-05-12

  • 分类号C02F1/76(20060101);B01D65/08(20060101);C01B11/20(20060101);A01N59/00(20060101);A01P1/00(20060101);A01N25/22(20060101);

  • 代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇;李茂家

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 12:39:09

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