一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂及其制备方法

摘要

本发明涉及基板清洗剂及其制备方法，具体公开了一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂及其制备方法，旨在解决现有的基板残留的各种材料、灰尘等清洗比较困难的问题。所述清洗剂包括以下质量百分数的原料：N‑乙基吗啉类化合物5～30％、挥发性乙二醇醚类化合物1～20％和水60～80％。所述制备方法为按配方量将N‑乙基吗啉类化合物、挥发性乙二醇醚类化合物和水按比例搅拌溶解，用有机酸pH调节剂调节为中性即可。本发明制备出了一种光学变色颜料真空镀膜基板清洗剂，能够完全地洗除基板上的各种有机材料、金属氧化物、灰尘等。