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研磨抛光载体、研磨一条抗磁元件的方法及研磨抛光载体组合件

摘要

本发明披露了机械加工一条抗磁元件用的研磨抛光载体。研磨抛光载体包括许多可移动部件,可移动部件在外表面终止,为一条抗磁元件形成通常平面的装配表面。研磨抛光载体由陶瓷材料形成。本发明还披露了研磨或机械加工一条抗磁元件的方法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-06-05

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24D 3/00 授权公告日:20090429 终止日期:20120416 申请日:20030416

    专利权的终止

  • 2009-04-29

    授权

    授权

  • 2005-10-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-17

    公开

    公开

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