采用DMD与液晶调制的曲面光刻方法

摘要

本发明涉及采用DMD与液晶调制的曲面光刻方法，属于光刻技术领域。采用DMD作为数字灰度掩模调制器，对入射光的振幅进行调制，同时加入液晶作为相位调制器，对入射光的相位进行调制，从而将入射的平面波转化为特定波前的光束，然后再经过投影镜头，最终成像在曲面的光刻胶基底上，从而实现曲面光刻。由于引入DMD和液晶联合对光束进行调制，增加了系统的设计自由度，从而实现高效、高精度曲面光刻。为曲面微结构器件的广泛应用奠定一定的基础。