擦刷洗净方法及擦刷洗净装置

摘要

本发明提供一种擦刷洗净方法及擦刷洗净装置，其抑制由辊的旋转所伴随的洗净液的逆流导致的积液的发生，抑制晶片正面的二次污染的发生。本发明为一种擦刷洗净方法，其借助多个辊（2）一边保持半导体基板（W）的外周缘（Wc）一边使其旋转，并且，使洗净部件（3）在半导体基板的洗净面（Wa）上滑动擦刷，由此使前述洗净面清洁化，其中，在使前述洗净部件（3）在半导体基板的洗净面的中心部（O1）滑动擦刷后，从前述中心部（O1），使前述洗净部件（3）在维持滑动擦刷的状态的同时，移动到外伸的距离（d），由此使前述半导体基板的洗净面清洁化，前述外伸的距离（d）是前述洗净部件的一部分从半导体基板的外周缘（Wc）突出的距离。