法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-11-21
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/822 授权公告日:20090325 终止日期:20110919 申请日:20060919
专利权的终止
2009-03-25
授权
授权
2008-05-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-03-26
公开
公开
机译: 金属单壁碳纳米管的破坏性如何,半导体单壁碳纳米管组件的制造方法,半导体单壁碳纳米管薄膜的制造方法,半导体单壁碳纳米管的破坏性方法,金属单壁碳纤维纳米管集合体的制造方法,金属单壁碳纳米管薄膜的制造方法以及碳纳米管FET电子器件的制造方法
机译: 处理单壁碳纳米管的方法,产生单壁碳纳米管,获得的单壁碳纳米管的扩散以及单壁碳纳米管的扩散的方法
机译: 混合型集成光学器件,用于混合型集成光学器件的硅光学平台,用于混合型集成光学器件的平面波导器件,混合型集成光学器件的制造方法以及光学器件