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近红外二区单通道分时复用成像系统及其使用方法

摘要

本发明属于光学分子成像领域,具体涉及了一种近红外二区单通道分时复用成像系统及其使用方法,旨在解决现有近红外二区成像设备操作复杂、精度低、无法快速调节成像视野、谱段不可变的问题。本发明系统包括:屏障模块,包括光学平台和避光暗箱;光源模块,一个白光和一个激发光;麻醉模块,进行麻醉及提供氧气;视野调节模块,调节成像视野的大小和区域;分时复用通道模块,进行不同谱段光的切换;光信号采集模块,采集白光图像和荧光图像;中央控制模块,控制不同波长通路的切换,控制光信号采集模块,获取灰度白光图像、近红外二区荧光图像,并进行图像处理获得二维荧光图像。本发明可快速调节成像视野、切换成像谱段,结构简单、操作便捷。

著录项

  • 公开/公告号CN110833399B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院自动化研究所;

    申请/专利号CN201911202047.5

  • 申请日2019-11-29

  • 分类号A61B5/00(20060101);

  • 代理机构11576 北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人郭文浩;尹文会

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村东路95号

  • 入库时间 2022-08-23 12:18:07

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