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一种基于二维反馈控制的AFM三维测量方法

摘要

本发明涉及一种基于二维反馈控制的AFM三维测量方法。包括以下实现方法:通过二维反馈控制方法让探针的反馈运动方向与水平成一角度,使得探针针尖能够沿着侧壁方向进行逐点触碰扫描,从而实现侧壁形貌点的信息采集;通过探针爬壁轨迹控制方法实现探针向上爬壁和向下爬壁两种运动轨迹;通过基于先验知识的反馈角度预测方法判断侧壁位置,从而可以预测反馈控制方向角度。本发明改变了传统AFM仅在垂直于样品水平面方向进行反馈控制的成像模式,能够对类沟槽形状的纳米结构进行精确三维形貌测量,为半导体芯片、MEMS等微纳结构三维参数测量提供了有效的技术手段。

著录项

  • 公开/公告号CN110068707B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院沈阳自动化研究所;

    申请/专利号CN201810067144.7

  • 申请日2018-01-24

  • 分类号G01Q60/24(20100101);

  • 代理机构21002 沈阳科苑专利商标代理有限公司;

  • 代理人王倩

  • 地址 110016 辽宁省沈阳市东陵区南塔街114号

  • 入库时间 2022-08-23 12:17:09

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