首页> 中国专利> 一种基于二硫键交换反应的聚二甲基硅氧烷自修复材料及其制备方法

一种基于二硫键交换反应的聚二甲基硅氧烷自修复材料及其制备方法

摘要

本发明提供一种基于二硫键交换反应的聚二甲基硅氧烷自修复材料及制备方法,属于自修复新材料及制备技术领域。本发明利用可逆交换的化学键实现材料损伤的修复具有非常重要的意义,且其在理论上具有无限次的损伤修复能力。该方法以二硫键做为材料的自修复键,再通过二异氰酸酯交联PDMS,最终得到了自修复PDMS弹性体。二异氰酸酯的加入,产生了脲基,从而形成了分子间氢键,增加了材料的交联密度。另外,本发明提供的方法简单可行,在氢键与二硫键的共同作用下,使材料获得了优异的力学性能和自修复性能。自修复功能材料为重要的新材料,有望解决传统方法无法解决的技术难题,在一些重要工程和尖端技术领域具有巨大的发展前景和应用价值。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号