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基于雪崩效应的兼具非饱和磁阻和负微分电阻特征的器件

摘要

本发明涉及半导体器件技术领域,提供了一种基于雪崩效应的兼具非饱和磁阻和负微分电阻特征的器件,包括半导体基体、设于半导体基体上的绝缘层以及设于绝缘层上的金属电极,半导体基体、绝缘层以及金属电极构成阻挡层异质结结构。阻挡层异质结结构处于持续的电场中,发生雪崩效应以使器件获得负微分电阻效应的特征,阻挡层异质结结构处于磁场中,雪崩效应受到抑制以获得非饱和磁阻效应的特征。本发明可以得到能在基于雪崩效应的情况下兼具非饱和磁阻和负微分电阻特征的器件,可用于在同一器件中实现多功能领域的应用,如在同一器件中可实现信息存储和电路放大器的功能应用。本发明所涉及的器件结构设计和性能测试方法简单,更易于生产应用。

著录项

  • 公开/公告号CN110518116B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉理工大学;

    申请/专利号CN201910721523.8

  • 申请日2019-08-06

  • 分类号H01L43/08(20060101);

  • 代理机构42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司;

  • 代理人崔友明

  • 地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号

  • 入库时间 2022-08-23 12:17:00

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