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一种三维石墨烯银杏内酯B分子印迹聚合物的制备方法及其应用

摘要

本发明公开了一种三维石墨烯银杏内酯B分子印迹聚合物的制备方法及其应用,利用分子印迹聚合物对模板物质的特异选择性和三维石墨烯巨大的比表面积和稳定的三维形状等优点,合成的三维石墨烯分子印迹聚合物使用后可直接用镊子取出洗脱检测,无需进行过滤离心等步骤,后处理简单方便,洗脱完成后重复干燥步骤即可循环使用,具有较好的吸附选择性和重复利用性能,同时该材料解决了常规吸附材料对模板分子没有选择性或选择吸附量低的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN110105511B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥工业大学;

    申请/专利号CN201910421911.4

  • 申请日2019-05-21

  • 分类号C08F292/00(20060101);C08F220/56(20060101);C08F220/06(20060101);C08J9/26(20060101);B01J20/26(20060101);B01J20/30(20060101);

  • 代理机构34101 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司;

  • 代理人乔恒婷

  • 地址 230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号

  • 入库时间 2022-08-23 12:11:02

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