公开/公告号CN109616426B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-07-09
原文格式PDF
申请/专利权人 敖翔科技股份有限公司;
申请/专利号CN201711086885.1
发明设计人 吕一云;
申请日2017-11-07
分类号H01L21/66(20060101);H01L21/67(20060101);
代理机构31272 上海申新律师事务所;
代理人董科
地址 中国台湾新竹县竹东镇二重里明星路228巷27号1楼
入库时间 2022-08-23 12:06:22
机译: 用于相位缺陷校正的掩模校正光学系统,用于相位缺陷校正的掩模校正装置以及用于相位缺陷校正的激光CVD掩模校正装置
机译: 缺陷校正装置,缺陷校正系统和缺陷校正方法
机译: 缺陷校正装置,缺陷校正系统和缺陷校正方法