公开/公告号CN109616426A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-04-12
原文格式PDF
申请/专利权人 敖翔科技股份有限公司;
申请/专利号CN201711086885.1
发明设计人 吕一云;
申请日2017-11-07
分类号
代理机构上海申新律师事务所;
代理人董科
地址 中国台湾新竹县竹东镇二重里明星路228巷27号1楼
入库时间 2024-02-19 09:26:47
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-07
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20171107
实质审查的生效
2019-04-12
公开
公开
机译: 用于相位缺陷校正的掩模校正光学系统,用于相位缺陷校正的掩模校正装置以及用于相位缺陷校正的激光CVD掩模校正装置
机译: 缺陷校正装置,缺陷校正系统和缺陷校正方法
机译: 缺陷校正装置,缺陷校正系统和缺陷校正方法