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一种柔性梯度应变薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明提供一种柔性梯度应变薄膜的制备方法及其应用,属于纳米薄膜制备技术领域。本发明通过在硅薄膜表面刻蚀形成对称且具有共同底边的等腰梯形结构,然后将具备图案的硅薄膜转移至经过预加载的PDMS衬底上,然后释放预加载,即可制备具有梯度应变的周期性纹波结构。本发明制备的具有纹波结构的柔性薄膜能够产生梯度应变,可以在不拉伸和不重复制样的前提下制备出不同大小的应变值,适用于多种环境和条件下的应变工程研究,节约资源,制备工艺简单,使用方便;并且梯度波纹和均匀波纹一样,具备一定的耐拉伸性。

著录项

  • 公开/公告号CN110620140B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201910870429.9

  • 申请日2019-09-16

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L21/02(20060101);

  • 代理机构51203 电子科技大学专利中心;

  • 代理人吴姗霖

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 12:04:53

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