一种基底上制作亲疏水图案化表面的方法及其应用

摘要

本发明提供了一种基底上制作亲疏水图案化表面的方法及其应用，该方法包括：S1、将紫外光固化树脂涂胶于亲水性基底表面，得到涂胶后的基底；S2、结合预先设计的数字掩膜，利用DMD无掩膜光刻系统对涂胶后的基底进行紫外光曝光，在基底表面形成对应掩膜的图案；S3、将曝光后的基底表面经过丙酮显影，然后用水清洗，得到具有亲疏水图案化表面的基底。相比于传统的亲疏水图案化表面的制作方法，本发明方法不需要昂贵的设备，图案尺寸精确可控，为进一步实现自组装液滴微阵列等应用拓宽了应用范围。本发明所采用的材料造价低廉，对并且加工过程比较的简单，从而大大的提高了加工效率，降低了成本。