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一种基于电场量标定的多维度光镊校准装置及方法

摘要

本发明公开一种基于电场量标定的多维度光镊校准装置及方法,利用紧聚焦光阱的偏振依赖特性,提出通过一维的电场标定装置实现对微粒的三轴电场力标定。本发明的方法使得微粒电场力标定系统与微粒投送、微粒检测系统兼容;简化了装置的复杂度,减弱标定复杂度。

著录项

  • 公开/公告号CN112863728B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 之江实验室;浙江大学;

    申请/专利号CN202110453690.6

  • 申请日2021-04-26

  • 分类号G21K1/00(20060101);G01B7/02(20060101);G01B21/04(20060101);G02B27/28(20060101);

  • 代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人贾玉霞

  • 地址 310023 浙江省杭州市余杭区文一西路1818号

  • 入库时间 2022-08-23 12:03:30

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