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具有读出放大器的半导体装置及读出放大器的形成方法

摘要

本发明提供了一种形成半导体装置的读出放大器的方法,该方法防止位线由于P型杂质的不规则密度而在绝缘夹层上产生的台阶部分彼此跨接,该P型杂质在形成半导体装置的读出放大器时离子注入到P+拾取器区中的绝缘夹层中。半导体装置的产率得到提高。

著录项

  • 公开/公告号CN100466230C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-03-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 海力士半导体有限公司;

    申请/专利号CN200610151861.5

  • 发明设计人 具东哲;

    申请日2006-09-13

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陶凤波

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-03

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/8238 授权公告日:20090304 终止日期:20160913 申请日:20060913

    专利权的终止

  • 2009-03-04

    授权

    授权

  • 2009-03-04

    授权

    授权

  • 2007-08-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-07-04

    公开

    公开

  • 2007-07-04

    公开

    公开

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