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监控缺陷观察设备晶圆载台精度偏移量的方法

摘要

本发明涉及监控缺陷观察设备晶圆载台精度偏移量的方法,涉及半导体芯片制造工艺,包括:提供待检测晶圆;通过缺陷检测设备,对晶圆进行缺陷扫描,并根据缺陷扫描结果生成缺陷位置信息文件;将缺陷位置信息文件传送至缺陷观察设备端;缺陷观察设备对缺陷位置信息文件内的缺陷进行缺陷检测,且在缺陷检测过程中结合其自身的缺陷自动分类功能对符合收集晶圆载台精度条件的缺陷进行筛选,生成符合收集晶圆载台精度条件的缺陷数据库;收集缺陷数据库内的缺陷在缺陷检测过程中晶圆载台偏移量信息,建立晶圆载台的偏移量数据库;设定晶圆载台的偏移量数据库的报警规则,以对缺陷观察设备晶圆载台精度实时、持续地监控,提高缺陷影像检测定位的稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN109979840B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN201910159725.8

  • 发明设计人 瞿燕;郭浩;

    申请日2019-03-04

  • 分类号H01L21/66(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人郭四华

  • 地址 201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2022-08-23 11:58:03

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