修改微光刻光学系统的成像性质的方法和装置

摘要

本发明涉及修改微光刻的光学系统的成像性质的方法和装置。根据本发明的方法包含通过由至少一个接口耦合到光学系统中的控制信号(A，B，C)修改成像性质，其中在控制成像性质的期望的修改中被耦入的这些控制信号的相应值基于模型来确定，其中生成该模型在于：在学习阶段中发生将模型连续单独适配到光学系统，在该学习阶段中确定了对于控制信号的不同值所获得的成像性质的相应修改；并且其中在没有规定光学系统内关于内部动作机制的显性信息的情况下，实行学习阶段。