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一种锰掺杂单层二硫化钨二维晶体的制备方法

摘要

本发明公开了一种锰掺杂单层二硫化钨二维晶体的制备方法,属于无机半导体纳米材料制备领域。该Mn掺杂单层WS2二维晶体的制备方法为:以MnO2、NaCl、WO3、S为原料,在三温区管式炉里面以Si/SiO2为基底,通过化学气相沉积的方式制备得到Mn掺杂单层WS2二维晶体。本实验室生长的本征WS2形貌多为规则的正三角形,Mn掺杂后的WS2样品的光学图像出现明显的衬度差,并且会有部分不规则的多角形出现。本发明操作简单,成本低廉,对仪器设备要求低,合成的样品化学及热力学稳定性好。所制备的样品在电子、传感器、探测器等光电及稀磁半导体方面有着巨大的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN111285401B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 燕山大学;

    申请/专利号CN202010177721.5

  • 申请日2020-03-13

  • 分类号C01G41/00(20060101);

  • 代理机构13123 石家庄众志华清知识产权事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张建

  • 地址 066004 河北省秦皇岛市海港区河北大街438号

  • 入库时间 2022-08-23 11:57:35

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