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使用低蒸气压气体前体向基材上沉积膜的系统

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摘要

提供了一种向基材(35)上沉积膜的方法。基材(35)容纳在压力为约0.1-100毫托的反应器容器(1)内。该方法包括使基材(35)经受一个包括以下步骤的反应周期：i)向反应器容器(1)提供一种温度为约20-150℃、蒸气压为约0.1-100托的气体前体，其中所述气体前体包括至少一种有机金属化合物；和ii)向反应器容器(1)提供一种吹扫气体，一种氧化气体或其组合。

著录项

公开/公告号CN100439561C

专利类型发明授权
公开/公告日2008-12-03

原文格式PDF
申请/专利权人马特森技术公司;
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申请/专利号CN03814415.8
发明设计人 S·C·塞尔布雷德;M·朱克;V·文图罗;
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申请日2003-04-14
分类号
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人卢新华
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 09:01:38

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2013-06-05

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/18 授权公告日:20081203 终止日期:20120414 申请日:20030414

专利权的终止
2008-12-03

授权

授权
2005-10-26

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-08-31

公开

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